及时解决氧化铝抛光液问题是实现高效可控抛光的关键

　　氧化铝抛光液作为一种经典且广泛应用的化学机械抛光介质，凭借硬度适中、成本低廉、分散稳定性好等优势，广泛用于金属、陶瓷、蓝宝石、光学玻璃及半导体衬底的精密抛光。然而，在实际使用过程中，可能会因配方失衡、操作不当或环境因素，出现划痕增多、抛光速率下降、沉淀结块、表面腐蚀等问题，严重影响工件表面质量与工艺一致性。掌握氧化铝抛光液典型问题的成因与科学解决方法，是实现高效、洁净、可控抛光的关键。
 

一、工件表面划痕严重
 

　　主要原因：
 

　　磨料粒径分布过宽，存在大颗粒团聚；
 

　　抛光液未充分分散或已沉降；
 

　　过滤系统失效，杂质混入。
 

　　解决方法：
 

　　使用前超声分散10–15分钟，确保纳米/微米级Al2O3均匀悬浮；
 

　　采用0.5–1.0μm精密过滤器循环过滤抛光液；
 

　　定期更换或清洗滤芯，避免堵塞导致旁通。
 

　　二、抛光速率显著下降
 

　　多因活性组分失效或浓度不足：
 

　　pH偏离范围(通常8–10)，影响氧化与去除平衡；
 

　　抛光液老化，有效成分消耗或微生物滋生；
 

　　磨料浓度偏低。
 

　　应对措施：
 

　　每班次用pH计检测并用氨水或有机碱微调；
 

　　控制单次使用周期(一般≤8小时)，避免长期循环使用；
 

　　按厂家推荐比例补加浓缩液，维持固含量(通常3%–15%)。
 

　　三、抛光液出现沉淀、结块或分层
 

　　储存温度过低(<5℃)，导致分散剂析出；
 

　　长时间静置未搅拌；
 

　　硬水配制，钙镁离子破坏胶体稳定性。
 

　　优化方案：
 

　　储存于10–30℃干燥环境，冬季注意保温；
 

　　使用前开启搅拌装置循环10分钟；
 

　　务必使用去离子水(电阻率≥1MΩ·cm)稀释浓缩液。
 

　　四、工件表面发暗、发雾或腐蚀
 

　　pH过高(>11)，强碱性腐蚀金属或玻璃；
 

　　含氯或硫杂质，引发点蚀；
 

　　清洗不到位，残留抛光液干燥后形成斑渍。
 

　　改进方法：
 

　　严格控制pH在工艺窗口内；
 

　　选用高纯度(≥99.99%)氧化铝原料配制的抛光液；
 

　　抛光后立即用去离子水喷淋+超声清洗，并快速烘干。